ガラス基板の化学加工方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島三雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-110838
公開番号（公開出願番号）：特開2003-020255
出願日： 2002年04月12日
公開日（公表日）： 2003年01月24日
要約：

【要約】【課題】板厚を薄くしつつ平坦性の高い各種FPD用ガラス基板を得ることができるガラス基板の化学加工方法を提供することを主たる目的とする。【解決手段】化学加工液中にガラス基板を浸漬し、このガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を0.5〜10μm/分の加工速度で加工する。

請求項（抜粋）：

化学加工液中にガラス基板を浸漬し、このガラス基板の外表面を構成する片側の一部若しくは全部または両側の一部若しくは全部を0.5〜10μm/分の加工速度で加工することを特徴とする化学加工方法。

IPC (4件)：

C03C 15/02 , C03C 15/00 , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500

FI (4件)：

C03C 15/02 , C03C 15/00 B , G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500

Fターム (17件)：

2H088FA07 , 2H088FA16 , 2H088FA19 , 2H088FA20 , 2H088HA01 , 2H088MA16 , 2H090JA02 , 2H090JB02 , 2H090JC13 , 2H090JD14 , 2H090JD15 , 4G059AA08 , 4G059AB19 , 4G059AC03 , 4G059BB04 , 4G059BB12 , 4G059BB14

引用特許：

審査官引用 (11件)

フロートガラス基板の平坦化方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-107331 出願人：セイミケミカル株式会社
フラットパネルディスプレイ用ガラス基板およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-132405 出願人：旭硝子株式会社
ガラス用エッチング液、エッチング方法、マイクロレンズ基板の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-127501 出願人：セイコーエプソン株式会社

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