シリカ系被膜形成用基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：北谷寿一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-051136
公開番号（公開出願番号）：特開平8-252506
出願日： 1992年07月17日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：

【要約】【課題】基板相互間での被膜のバラツキがなく、均一な処理を可能にするシリカ系被膜形成用基板処理装置を提供する。【解決手段】シリコン化合物を有機溶剤に溶解させ又はシリカ系の微粒子を有機溶剤に分散混入させたシリカ系の被膜形成用塗布液を、基板1に回転塗布する回転塗布機23と、前記基板1を受け取って、その基板1に回転塗布されたシリカ系の被膜から溶剤成分を揮発させる熱処理板27と、前記熱処理板27で溶剤成分を揮発された基板1を、複数枚を一単位として一括装填して熱処理する熱処理炉46とを備える。

請求項（抜粋）：

シリコン化合物を有機溶剤に溶解させ又はシリカ系の微粒子を有機溶剤に分散混入させたシリカ系の被膜形成用塗布液を、基板に回転塗布する回転塗布機と、前記基板を受け取って、基板に回転塗布されたシリカ系被膜形成用の塗布液から溶剤成分を揮発させる熱処理板と、前記熱処理板で溶剤成分を揮発された基板を、複数枚を一単位として一括装填して熱処理する熱処理炉と、を備えるシリカ系被膜形成用基板処理装置。

IPC (4件)：

B05C 11/08 , B05D 7/24 301 , B05D 7/24 302 , G03F 7/16 502

FI (4件)：

B05C 11/08 , B05D 7/24 301 E , B05D 7/24 302 Y , G03F 7/16 502

引用特許：

審査官引用 (7件)

回転塗布処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-213665 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開昭64-022375
特開平1-270962

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