化学増幅型ポジ型レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：久保山隆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-053967
公開番号（公開出願番号）：特開2001-343750
出願日： 2001年02月28日
公開日（公表日）： 2001年12月14日
要約：

【要約】【課題】樹脂と酸発生剤を含有し、ArFやKrFなどのエキシマレーザーリソグラフィに適した化学増幅型のポジ型レジスト組成物であって、感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特に改善されたラインエッジラフネスを与えるポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、酸発生剤、及びシクロヘキサノール類を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

酸の作用でアルカリ可溶となる樹脂、酸発生剤、及びシクロヘキサノール類を含有することを特徴とする化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , H01L 21/30 502 R

Fターム (12件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CC20 , 2H025FA17

引用特許：

審査官引用 (5件)

ポジ型感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-028623 出願人：三菱化学株式会社
感放射線性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-245744 出願人：三菱化学株式会社
感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-023935 出願人：株式会社東芝

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