特許
J-GLOBAL ID:200903037438921954

金属微粒子の連続製造方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 松浦 憲三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-368899
公開番号(公開出願番号):特開2005-133135
出願日: 2003年10月29日
公開日(公表日): 2005年05月26日
要約:
【課題】副生ガスの発生を伴う多元系合金の金属微粒子の製造を連続処理化することができ、且つ連続処理化しても副生ガスを効率的に除去して反応の安定化・均一化を図ることができるので、粒子サイズが小さく単分散性の良い一定品質の金属微粒子を安定的に製造することができる。【解決手段】第1の混合装置12で混合した第1の溶液と第2の溶液の反応を、第1の混合装置から第2の混合装置18への配管14内で進行させ、反応の進行に伴って発生する副生ガスを配管の途中に設けた連続式の気液分離装置16で連続的に脱ガスするようにして、配管を送液される反応液の流れの安定化を図るようにした。また、連続的に脱ガスすることで反応の平衡が反応促進側に進み反応性が向上する。更には、第2の混合装置での混合の際に副生ガスが残留しないので、第2の混合装置において均一な混合を促進する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
多元系合金の金属微粒子の連続製造であって、該金属微粒子形成の初期反応で副生ガスの発生を伴う金属微粒子の連続製造装置において、 前記初期反応を行うための複数種の溶液を連続的に供給混合する第1の混合装置と、 前記初期反応で生成された金属微粒子を含む反応液に更に別の溶液を連続的に供給混合して該金属微粒子の結晶格子に異種金属原子を導入する第2の混合装置と、 前記初期反応を終了させるに十分な長さに形成されると共に前記反応液が前記第1の混合装置から前記第2の混合装置へ連続的に送液される配管の途中に設けられ、前記初期反応の進行に伴って発生する副生ガスを連続的に脱ガスする気液分離装置と、を備えたことを特徴とする金属微粒子の連続製造装置。
IPC (7件):
B22F9/24 ,  B01D19/00 ,  B01F5/02 ,  B01F5/06 ,  B01F7/16 ,  B01F7/28 ,  B01J19/00
FI (8件):
B22F9/24 Z ,  B01D19/00 B ,  B01D19/00 102 ,  B01F5/02 A ,  B01F5/06 ,  B01F7/16 Z ,  B01F7/28 ,  B01J19/00 N
Fターム (41件):
4D011AA01 ,  4D011AA04 ,  4D011AA05 ,  4D011AA15 ,  4D011AA16 ,  4G035AC01 ,  4G035AC15 ,  4G035AC26 ,  4G075AA27 ,  4G075BA06 ,  4G075BB05 ,  4G075EA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EC11 ,  4G078AA04 ,  4G078AA21 ,  4G078AA23 ,  4G078AB11 ,  4G078BA05 ,  4G078BA09 ,  4G078CA01 ,  4G078CA02 ,  4G078DA01 ,  4G078DA19 ,  4G078DA21 ,  4G078DA23 ,  4G078DA30 ,  4G078EA03 ,  4K017AA04 ,  4K017AA06 ,  4K017BA02 ,  4K017BA03 ,  4K017BA06 ,  4K017BB01 ,  4K017BB02 ,  4K017BB05 ,  4K017CA07 ,  4K017DA03 ,  4K017DA09 ,  4K017EJ00 ,  4K017FB11
引用特許:
出願人引用 (7件)
  • 気体分離装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平10-141523   出願人:トキコ株式会社
  • ガス分離装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-046631   出願人:富士通株式会社
  • ガス分離ユニット及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-241232   出願人:東洋鋼鈑株式会社, 東京瓦斯株式会社
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