特許
J-GLOBAL ID：200903037475283496

マルチビーム走査光学系及びそれを用いた画像形成装置

発明者：
石原 圭一郎

石原 圭一郎 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-328280
公開番号（公開出願番号）：特開2001-147388
出願日： 1999年11月18日
公開日（公表日）： 2001年05月29日
要約：
【要約】【課題】 各光学部品における製造誤差・組立誤差に対する敏感度を低減させてラインピッチ間隔の変化量を小さく抑える。【解決手段】 2光束の間隔を狭めて結像レンズ面へ入射する位置における入射角差を小さく抑えることで結像倍率の差を小さくする。具体的には、副走査方向画素密度をAとして、(dms・Lap)/(fco・k)≦(1.6/A)を満たすようにして、各光学部品に製造誤差及び組立誤差が生じた時のラインピッチ間隔変化量に対する敏感度を低減させる。主走査方向の光束幅を決定する絞り3bは偏向反射面5aに近い方が効果的なので入射光学系を構成する光学部品のうちで最もポリゴンミラー5側に配置するのが望ましく、シリンドリカルレンズ4とポリゴンミラー5との間に配置する。
請求項（抜粋）：
複数の発光点が主走査方向にある間隔を有して配列された光源手段と、前記光源手段から発せられたマルチビームを集光させる入射光学系と、前記光源手段から発せられたマルチビームを反射偏向する偏向手段と、前記偏向手段によって反射偏向されたマルチビームを感光体である被走査面上にスポットとして結像させる少なくとも1枚の結像レンズによって構成されるfθ結像光学系とを有するマルチビーム走査光学系において、前記マルチビームのうちある一つの光束をMBA、隣の光束をMBBとし、主走査方向において光束MBA、MBBが互いに異なる光路を通って前記被走査面上の同一位置に到達する際、前記光束MBAにおける前記結像レンズの副走査方向の結像倍率をβla、前記結像レンズよりも後ろの光学系の副走査方向の結像倍率をβl’aとし、前記光束MBBにおける前記結像レンズの副走査方向の結像倍率をβlba、前記結像レンズよりも後ろの光学系の副走査方向の結像倍率をβl’bとし、前記被走査面上の副走査方向の画素密度をA(dpi)としたとき、式(1)を満足することを特徴とするマルチビーム走査装置。【数1】
IPC (5件)：
G02B 26/10 ,  G02B 26/10 103 ,  B41J 2/44 ,  G02B 13/00 ,  H04N 1/113
FI (6件)：
G02B 26/10 B ,  G02B 26/10 E ,  G02B 26/10 103 ,  G02B 13/00 ,  B41J 3/00 D ,  H04N 1/04 104 A
Fターム (47件)：
2C362AA09 ,  2C362AA34 ,  2C362BA58 ,  2C362BA61 ,  2C362BB03 ,  2C362BB14 ,  2H045AA01 ,  2H045BA22 ,  2H045BA33 ,  2H045CA03 ,  2H045CA34 ,  2H045CA55 ,  2H045CA68 ,  2H045DA02 ,  2H087KA19 ,  2H087LA22 ,  2H087LA25 ,  2H087PA01 ,  2H087PA02 ,  2H087PA17 ,  2H087PB01 ,  2H087PB02 ,  2H087QA03 ,  2H087QA06 ,  2H087QA07 ,  2H087QA12 ,  2H087QA21 ,  2H087QA31 ,  2H087QA32 ,  2H087QA41 ,  2H087RA05 ,  2H087RA07 ,  2H087RA08 ,  2H087RA12 ,  2H087RA13 ,  2H087RA32 ,  5C072AA03 ,  5C072BA16 ,  5C072BA17 ,  5C072DA18 ,  5C072HA02 ,  5C072HA06 ,  5C072HA09 ,  5C072HA10 ,  5C072HA13 ,  5C072XA01 ,  5C072XA05
引用特許：
審査官引用 (4件)
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