特許

J-GLOBAL ID：200903037521867872

インジウム系酸化物微粒子の製造方法、該微粒子を含む透明導電性被膜形成用塗布液および透明導電性被膜付基材、表示装置

発明者： 俵 迫 祐 二 ,  金 南 憲 ,  平 井 俊 晴
出願人/特許権者： 触媒化成工業株式会社
代理人 (4件)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより ,  鈴木 亨
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-239453
公開番号（公開出願番号）：特開2004-075472
出願日： 2002年08月20日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：

【課題】帯電防止性、電磁遮蔽性、反射防止性等に優れるとともに、被膜の強度、透明性にも優れた透明導電性被膜の形成に好適に用いることができるインジウム系酸化物微粒子およびその用途を提供する【解決手段】インジウム系水酸化物をアルコールに分散させ、ついで乾燥した後、200〜500°Cの温度範囲で加熱処理するインジウム系酸化物微粒子の製造方法。インジウム系水酸化物をアルコールに分散させた後、分散液を120〜400°Cの温度範囲でオートクレーブ処理し、ついで乾燥した後、200〜500°Cの温度範囲で加熱処理してもよい。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

インジウム系水酸化物をアルコールに分散させ、ついで乾燥した後、200〜500°Cの温度範囲で加熱処理することを特徴とするインジウム系酸化物微粒子の製造方法。

IPC (5件)：

C01G15/00 ,  C09D1/00 ,  C09D5/00 ,  C09D5/24 ,  H01B5/14

FI (5件)：

C01G15/00 B ,  C09D1/00 ,  C09D5/00 Z ,  C09D5/24 ,  H01B5/14 A

Fターム (15件)：

4J038HA156 ,  4J038HA216 ,  4J038JA19 ,  4J038JA20 ,  4J038JA26 ,  4J038JA33 ,  4J038JA56 ,  4J038JA57 ,  4J038KA20 ,  4J038MA06 ,  4J038MA07 ,  4J038NA20 ,  5G307FB01 ,  5G307FC02 ,  5G307FC09

引用特許：

審査官引用 (10件)

• 特開平3-054114
  
• 特開平1-290527
  
• 酸化インジウムゾル、その製造方法および導電性被膜付基材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-278148   出願人：触媒化成工業株式会社
• 特開昭62-007627
  
• 透明導電性膜用塗料とその製造方法、ならびに透明導電性膜とその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-047179   出願人：日立マクセル株式会社
• ITO粉末の製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-260464   出願人：稀産金属株式会社
• 酸化インジウムオルガノゾル、その製造方法および導電性被膜付基材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-097157   出願人：触媒化成工業株式会社
• 特開平4-325415
  
• 特開平1-087519
  
• 酸化インジウム粉末の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-169921   出願人：三菱マテリアル株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Nanosize Indium Hydroxide by Peptization of Colloidal Precipitates