特許
J-GLOBAL ID：200903037570790940

電解研磨装置

発明者：
井岡 隼人

井岡 隼人 について


出願人/特許権者：
パナソニック電工株式会社

パナソニック電工株式会社 について


代理人 (3件)： 板谷 康夫 ,  田口 勝美 ,  水田 愼一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-221893
公開番号（公開出願番号）：特開2009-052110
出願日： 2007年08月28日
公開日（公表日）： 2009年03月12日
要約：
【課題】個片状の複数のワークを連続的に処理する電解研磨装置において、簡単な構成により、ワーク数の変動やワークの脱落、欠損による電流密度変化に対応してワークに対して所望の電流密度となるように電流を制御し、高品質処理を実現可能とする。【解決手段】電解研磨装置1は、電解槽2に満たされた電解液2a中に個片状の複数のワークWを連続的に通すことにより該ワークWを電解研磨する装置であり、電解槽2中に投入されたワークWを検知するセンサ3と、センサ3による検知結果に基づくワーク数に応じて電解研磨用の電流を制御する制御部4と、を備えている。制御部4は、ワーク1個あたりの最適電流値にワーク数を掛け算して得られた電流値となるように電解研磨用の全体電流を制御して高品質処理を実現する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
電解槽に満たされた電解液中に個片状の複数のワークを連続的に通すことにより該ワークを電解研磨する電解研磨装置において、 電解槽中に投入されたワークを検知するセンサと、 前記センサによる検知結果に基づくワーク数に応じて電解研磨用の電流を制御する制御部と、を備え、 前記制御部は、ワーク1個あたりの最適電流値にワーク数を掛け算して得られた電流値となるように電解研磨用の全体電流を制御することを特徴とする電解研磨装置。
IPC (3件)：
C25F 7/00 ,  C25F 3/16 ,  B23H 3/02
FI (3件)：
C25F7/00 V ,  C25F3/16 B ,  B23H3/02 Z
Fターム (4件)：
3C059AA02 ,  3C059AB00 ,  3C059CC02 ,  3C059CG04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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