特許

J-GLOBAL ID：200903037715475720

ガス溶解洗浄水の製造方法、製造装置及び洗浄装置

発明者： 森田 博志 ,  床嶋 裕人
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-067406
公開番号（公開出願番号）：特開2007-243113
出願日： 2006年03月13日
公開日（公表日）： 2007年09月20日
要約：

【課題】真空ポンプなどの減圧機構を使用することなく、安全に所望のガス濃度のガス溶解洗浄水を製造することができ、使用済みのガス溶解洗浄水の水と特定ガスを再利用することができ、高度な清浄度を必要とする電子部品などの洗浄に好適に使用することができるガス溶解洗浄水の製造方法、製造装置及び洗浄装置を提供する。【解決手段】特定ガスを水に溶解したガス溶解洗浄水の製造方法において、特定ガスを大気圧を超える加圧下に水に溶解して大気圧下の溶解度以上の濃度のガス溶解水とし、次いでガス溶解水を減圧して溶存ガスの一部を除去するガス溶解洗浄水の製造方法、特定ガスを大気圧を超える加圧下に水に溶解するガス溶解装置と、ガス溶解装置からのガス溶解水を、ガス溶解時の圧力より低い圧力に減圧し、溶存ガスの一部を除去するガス部分除去装置とを有するガス溶解洗浄水の製造装置、及び、該ガス溶解洗浄水を用いる洗浄装置。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

特定ガスを水に溶解したガス溶解洗浄水の製造方法において、特定ガスを大気圧を超える加圧下に水に溶解して大気圧下の溶解度以上の濃度のガス溶解水とし、次いでガス溶解水を減圧して溶存ガスの一部を除去することを特徴とするガス溶解洗浄水の製造方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  B01D 19/00 ,  B01F 1/00

FI (6件)：

H01L21/304 647Z ,  B08B3/02 Z ,  B08B3/08 Z ,  H01L21/304 648F ,  B01D19/00 H ,  B01F1/00 A

Fターム (10件)：

3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201BB02 ,  3B201BB92 ,  3B201CD22 ,  4D011AA17 ,  4D011AC04 ,  4D011AD03 ,  4G035AA01 ,  4G035AA02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第3521393号公報
  
• 水素含有超純水の供給装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-251387   出願人：栗田工業株式会社

審査官引用 (4件)

• 還元水及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-183519   出願人：株式会社ティーイーディー
• 液状製品の脱気方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-240486   出願人：三浦工業株式会社
• 高濃度オゾン水製造装置及びこの装置を用いた高濃度オゾン水の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-345174   出願人：コフロック株式会社
• ウェット処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-095568   出願人：株式会社フロンテック