エンボス文字検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三好千明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-282600
公開番号（公開出願番号）：特開2004-117239
出願日： 2002年09月27日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】カード体に形成されたエンボス文字の検査を容易に行うことができるエンボス文字検査装置を提供する。【解決手段】ステージ21にエンボスカード2を配置した状態で、検査対象となるエンボス文字15の一方側に、エンボスカード2へ斜め上方から光を照射する照明22を設け、他方側に、照明22で照らされたエンボスカード2の画像を斜め上方から取得するカメラ23を設ける。照明22を、その光が被膜層14で全反射する入射角度31でエンボスカード2に照射される位置に配置する。カメラ23を、被膜層14にて入射角度31と同じ角度である反射角度33で全反射した反射光を入力する位置に配置する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

印刷が被膜層で覆われるとともにエンボス文字が打ち出されたカード体を検査するエンボス文字検査装置において、検査対象となるエンボス文字の一方側に設けられ、前記カード体へ斜め上方から光を照射する光源と、前記検査対象となるエンボス文字の他方側に設けられ、前記光源からの前記光で照らされた前記カード体の画像を斜め上方から取得する画像取得手段とを備え、前記光が前記被膜層で全反射する入射角度の光路上の近傍位置に前記光源を配置し、前記被膜層で反射した反射光の反射角度の光路上の近傍位置に前記画像取得手段を配置したことを特徴とするエンボス文字検査装置。

IPC (1件)：

G01B11/24

FI (2件)：

G01B11/24 K , G01B11/24 A

Fターム (12件)：

2F065AA54 , 2F065CC00 , 2F065DD04 , 2F065FF04 , 2F065HH03 , 2F065HH12 , 2F065JJ26 , 2F065KK01 , 2F065LL46 , 2F065QQ29 , 2F065UU01 , 2F065UU02

引用特許：

審査官引用 (7件)

物体の表面状態検出装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-344919 出願人：オムロン株式会社
変位測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-236600 出願人：コニカ株式会社, 株式会社甲府コニカ
特開平2-113384

全件表示

前のページに戻る