特許
J-GLOBAL ID：200903037800778120

リソグラフィー用ペリクル

発明者：
白崎 享

白崎 享 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 山本 亮一 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-066075
公開番号（公開出願番号）：特開2001-255643
出願日： 2000年03月10日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：
【要約】【課題】 フッ素エキシマレーザー光(波長:158nm)に対して透過率の高い、高性能なリソグラフィー用ペリクルを提供する。【解決手段】 本発明のリソグラフィー用ペリクルは、少なくともペリクル膜とペリクルフレームからなるペリクルにおいて、該ペリクルフレームに張設されるペリクル膜が、繰り返し構造単位中の主鎖を形成する部分にエーテル結合を含み、かつ環状構造を含まないフッ素樹脂を主成分としてなることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
少なくともペリクル膜とペリクルフレームからなるペリクルにおいて、該ペリクルフレームに張設されるペリクル膜が、繰り返し構造単位中の主鎖を形成する部分にエーテル結合を含み、かつ環状構造を含まないフッ素樹脂を主成分としてなることを特徴とするリソグラフィー用ペリクル。
IPC (2件)：
G03F 1/14 ,  H01L 21/027
FI (2件)：
G03F 1/14 J ,  H01L 21/30 503 A
Fターム (2件)：
2H095BC33 ,  5F046CB17
引用特許：
審査官引用 (4件)
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