特許
J-GLOBAL ID：200903037862506509

レジスト用剥離液およびこれを用いたレジスト剥離方法

発明者：
中村 昌洋

中村 昌洋 について


出願人/特許権者：
日本ゼオン株式会社

日本ゼオン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-098842
公開番号（公開出願番号）：特開2002-296804
出願日： 2001年03月30日
公開日（公表日）： 2002年10月09日
要約：
【要約】【課題】 安全性に優れたレジスト用剥離液を得る。【解決手段】 t-ブチルヒドラジン、またはその塩を含有してレジスト用剥離液を調製し、これをレジストの剥離に用いる。
請求項（抜粋）：
t-ブチルヒドラジンまたはその塩を含有してなるレジスト用剥離液。
IPC (3件)：
G03F 7/42 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/308
FI (3件)：
G03F 7/42 ,  H01L 21/308 E ,  H01L 21/30 572 B
Fターム (7件)：
2H096AA25 ,  2H096AA28 ,  2H096GA08 ,  2H096HA11 ,  2H096LA03 ,  5F043CC16 ,  5F046MA02
引用特許：
審査官引用 (4件)
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