特許
J-GLOBAL ID：200903037978600430
深紫外線対応近接場光学顕微鏡
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
小林 良平
, 竹内 尚恒
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-300932
公開番号（公開出願番号）：特開2004-138404
出願日： 2002年10月15日
公開日（公表日）： 2004年05月13日
要約：
【課題】重金属による染色や蛍光物質の導入といった特別な前処理をせずとも有機物のイメージングが可能であって、しかも複数の化学種を含む物質についても、その化学種を同定し構造をイメージングすることが可能な、ナノメートルスケールという高分解能の観察手段を提供する。【解決手段】従来の近接場光学顕微鏡は、ナノメートルスケールでの観察は行えるものの、多くの物質、特に有機物が自家蛍光を発する深紫外線領域での観察が行えなかった。そこで深紫外線領域での観察を可能とするために、励起光および信号光が通過するすべての光学部品を純粋石英製または蛍石製とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
励起光および信号光が通過するすべての光学部品を石英製もしくは蛍石製として、深紫外領域までの観察を可能としたことを特徴とする深紫外線対応近接場光学顕微鏡。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N13/14 A
, G01N21/64 E
2G043AA04
, 2G043BA14
, 2G043BA16
, 2G043EA01
, 2G043EA13
, 2G043FA02
, 2G043HA01
, 2G043JA01
, 2G043KA01
, 2G043KA02
, 2G043KA03
, 2G043KA05
, 2G043KA09
, 2G043LA01
, 2G043NA05
