特許

J-GLOBAL ID：200903038046472198

欠陥検査方法

発明者： 前田 俊二 ,  酒井 薫 ,  岡部 隆史
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-073504
公開番号（公開出願番号）：特開2003-271927
出願日： 2002年03月18日
公開日（公表日）： 2003年09月26日
要約：

【要約】【課題】検査対象画像を参照画像と比較してその差異から欠陥を検出する欠陥検査において、画像間の明るさの違いによる虚報の発生を防止するため、しきい値を大きく設定し、感度を落とすことを余儀なくされていた。【解決手段】検査対象画像と参照画像の差異が小さくなるように、散布図分解を行い比較する、或いは、比較対象の合わせ込みを行う。これにより、ウェハ内の膜厚の違いにより生じる画像間の違い等を許容でき、感度を落とさず虚報の発生を防止できる。

請求項（抜粋）：

検査対象となる試料の画像を基準となる参照画像と比較して、欠陥を検出する欠陥検査方法であって、検査対象画像と参照画像の明るさやコントラストなど、定めた特徴を軸にもつ多次元空間に投票し、この投票データを用いて、欠陥を検出することを特徴とする欠陥検査方法。

IPC (5件)：

G06T 1/00 305 ,  G01B 11/30 ,  G01N 21/956 ,  G06T 7/00 300 ,  H01L 21/66

FI (5件)：

G06T 1/00 305 A ,  G01B 11/30 A ,  G01N 21/956 A ,  G06T 7/00 300 F ,  H01L 21/66 J

Fターム (59件)：

2F065AA49 ,  2F065BB02 ,  2F065CC18 ,  2F065CC19 ,  2F065DD04 ,  2F065FF42 ,  2F065FF61 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL05 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ00 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ12 ,  2F065QQ13 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ18 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ28 ,  2F065QQ32 ,  2F065QQ33 ,  2F065QQ34 ,  2F065QQ38 ,  2F065QQ41 ,  2F065QQ42 ,  2G051AA51 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA25 ,  2G051EC01 ,  2G051EC02 ,  2G051EC03 ,  4M106AA01 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ40 ,  5B057AA03 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DA03 ,  5B057DC33 ,  5B057DC36 ,  5L096AA06 ,  5L096BA03 ,  5L096EA12 ,  5L096GA07 ,  5L096JA03 ,  5L096JA11 ,  5L096JA22

引用特許：

審査官引用 (4件)

• パターン欠陥検査方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-206866   出願人：株式会社日立製作所
• 欠陥検査方法及びその装置並びに欠陥解析方法及びその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-250984   出願人：株式会社日立製作所
• パターンの欠陥検査方法およびその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-264275   出願人：株式会社日立製作所
• 欠陥検査方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-110383   出願人：株式会社日立製作所