特許
J-GLOBAL ID：200903038102007843

塗膜形成組成物及びその製造方法並びにコーティング膜

発明者：
宮沢 伸

宮沢 伸 について

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藤森 秀雄

藤森 秀雄 について

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森平 雄一

森平 雄一 について


出願人/特許権者：
有限会社エヌ・ティー・エス

有限会社エヌ・ティー・エス について

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株式会社菱和

株式会社菱和 について


代理人 (1件)： 三枝 弘明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-124435
公開番号（公開出願番号）：特開2001-302944
出願日： 2000年04月25日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
要約：
【要約】【課題】 従来用いられていなかった新たな素材を用いることにより、高い防汚性を呈する強固な被膜及びこれを基材表面に形成することのできる塗膜形成組成物を提供する。【解決手段】 ハイドロタルサイト類と、酸化チタン等の金属酸化物の微粒子と、コロイダルシリカなどのバインダーとを混合し、塗膜形成組成物を得ることにより、半導体表面を有し、粉塵等が付着しにくく、高い防汚性を呈する強固な被膜を形成できる。
請求項（抜粋）：
[M2+1-XM3+X(OH)2]X+[An-X/n・mH2O]X-(M2+は2価の金属イオン、M3+は3価の金属イオン、An-はn価のアニオン、Xは0より大きく0.33以下)で示されるハイドロタルサイト類と、金属酸化物の微粒子とを含むことを特徴とする塗膜形成組成物。
Fターム (21件)：
4J038AA011 ,  4J038HA196 ,  4J038HA216 ,  4J038HA286 ,  4J038HA296 ,  4J038HA446 ,  4J038KA12 ,  4J038KA15 ,  4J038KA20 ,  4J038LA03 ,  4J038LA04 ,  4J038LA06 ,  4J038MA07 ,  4J038MA08 ,  4J038MA10 ,  4J038NA05 ,  4J038NA20 ,  4J038PA19 ,  4J038PB02 ,  4J038PB07 ,  4J038PC03
引用特許：
審査官引用 (19件)
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