特許

J-GLOBAL ID：200903038146500148

パターニング方法

発明者： 川添 忠 ,  大津 元一 ,  山本 洋
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-194985
公開番号（公開出願番号）：特開2003-013236
出願日： 2001年06月27日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】 反応ガスの選択性を広めた。【解決手段】 原料ガスに、原料ガスの解離エネルギーよりも大きいエネルギーの近接場光を照射することにより、当該原料ガスを光化学反応により分解させ、その分解生成物を基材上に堆積させて所定のパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

原料ガスに、当該原料ガスの解離エネルギーよりも大きいエネルギーの近接場光を照射することにより、当該原料ガスを光化学反応により分解させ、その分解生成物を基材上に堆積させて所定のパターンを形成することを特徴とするパターニング方法。

IPC (4件)：

C23C 16/48 ,  G02B 6/10 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285

FI (4件)：

C23C 16/48 ,  G02B 6/10 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 C

Fターム (19件)：

2H050AC03 ,  2H050AC87 ,  4K030AA11 ,  4K030BA21 ,  4K030BB14 ,  4K030CA04 ,  4K030CA05 ,  4K030FA06 ,  4K030KA36 ,  4K030LA15 ,  4M104BB04 ,  4M104DD44 ,  4M104DD45 ,  4M104DD46 ,  4M104DD48 ,  4M104HH14 ,  5F045AA11 ,  5F045CB10 ,  5F045DB09

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 光アシストパターン形成方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-121300   出願人：日本電気株式会社
• 微小パターンの作製方法及び作製装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-193791   出願人：キヤノン株式会社