微小パターンの作製方法及び作製装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-193791
公開番号（公開出願番号）：特開2000-008166
出願日： 1998年06月24日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：

【要約】【課題】本発明は、従来の光を用いた加工では作製できなかった100nm以下のオーダーの大きさの微細なパターン、特に導電性パターンを、基材上に直接描画し、安定的かつ速い速度で作製する微小パターンの作製方法及び作製装置を提供することを目的としている。【解決手段】本発明は、光プローブによって基材上に微細なパターンを形成する微小パターン作製方法または装置であって、光プローブに設けられた微小開口より照射する照射光によって、材料ガスを光化学反応により分解し、その分解生成物を基材上に供給して微細なパターンを形成することを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

光プローブに設けられた微小開口より照射する照射光によって、材料ガスを光化学反応により分解し、その分解生成物を基材上に供給して微細なパターンを形成することを特徴とする微小パターンの作製方法。

IPC (4件)：

C23C 16/04 , C23F 4/00 , G01N 13/14 , H01L 21/205

FI (4件)：

C23C 16/04 , C23F 4/00 A , G01N 37/00 D , H01L 21/205

Fターム (29件)：

4K030AA03 , 4K030AA11 , 4K030AA12 , 4K030AA20 , 4K030BA01 , 4K030BA26 , 4K030BA40 , 4K030BB11 , 4K030CA04 , 4K030DA08 , 4K030EA05 , 4K030EA06 , 4K030FA06 , 4K030FA07 , 4K030KA36 , 4K030KA47 , 4K030LA15 , 4K057DA11 , 4K057DB06 , 4K057DB11 , 4K057DB15 , 4K057DE08 , 4K057WB06 , 4K057WE21 , 5F045AA12 , 5F045AC08 , 5F045DP04 , 5F045EK12 , 5F045HA13

引用特許：

審査官引用 (8件)

光アシストパターン形成方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-121300 出願人：日本電気株式会社
光リソグラフィ方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-249138 出願人：株式会社日立製作所
特開平2-156086

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