円筒状ターゲット及びその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松浦憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-268437
公開番号（公開出願番号）：特開2002-155356
出願日： 2001年09月05日
公開日（公表日）： 2002年05月31日
要約：

【要約】【課題】マグネトロンスパッタリング装置に適用される円筒状ターゲットにおいて、ターゲット材料と、これを支持するバッキングチューブの材料選択の可能性を広げるとともに、製造の簡易化と再利用化を可能にする。【解決手段】内筒である金属製のバッキングチューブ16と、外筒である円筒形状のターゲット材料20の間にカーボンフェルト等の緩衝部材52を介在させることにより、両者を接合して円筒状ターゲット14を得る。

請求項（抜粋）：

円筒状のバッキングチューブの外周に中空円筒形状のターゲット材料が配置されるとともに、前記バッキングチューブと前記ターゲット材料の間に緩衝部材を介して前記バッキングチューブと前記ターゲット材料とが接合されていることを特徴とする円筒状ターゲット。

Fターム (6件)：

4K029DC05 , 4K029DC13 , 4K029DC16 , 4K029DC22 , 4K029DC34 , 4K029DC43

引用特許：

審査官引用 (4件)

セラミックス回転カソードターゲットおよびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-250543 出願人：旭硝子株式会社
長尺円筒状スパッタリングターゲット
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-043221 出願人：三菱マテリアル株式会社
スパッタリング装置のターゲット構造
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-233767 出願人：株式会社ライク

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