特許
J-GLOBAL ID：200903038304137536
フォトレジスト洗浄除去剤
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-299064
公開番号（公開出願番号）：特開平11-133629
出願日： 1997年10月30日
公開日（公表日）： 1999年05月21日
要約：
【要約】【課題】RIE法等で生じた側壁堆積膜や、イオン注入処理により高度に変質したフォトレジストも、良好に溶解できるフォトレジスト洗浄除去剤を提供すること。【解決手段】モノエタノールアミン5〜30重量%とジメチルホルムアミド70〜95重量%とからなり、好適には非イオン性界面活性剤を含んでなるフォトレジスト洗浄除去剤。
請求項（抜粋）：
モノエタノールアミン5〜30重量%とジメチルホルムアミド70〜95重量%とからなるフォトレジスト洗浄除去剤。
IPC (4件)：
G03F 7/42
, H01L 21/027
, H01L 21/306
, H01L 21/308
G03F 7/42
, H01L 21/308 E
, H01L 21/30 572 B
, H01L 21/306 D
