特許
J-GLOBAL ID：200903038408311082

フォトマスク、フォトマスクの製造方法、配線基板、カラーフィルタおよび電子光学機器

発明者：
豊田 直之

豊田 直之 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 西 和哉 ,  志賀 正武 ,  青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-325939
公開番号（公開出願番号）：特開2005-091849
出願日： 2003年09月18日
公開日（公表日）： 2005年04月07日
要約：
【課題】 簡便かつ安価に作成することができるフォトマスク、フォトマスクの製造方法、およびそれを用いた配線基板、カラーフィルタ、電子光学機器を提供すること。【解決手段】 光透過性を有する可撓性基板1と、可撓性基板1に配置された昇華性色素または熱移行性色素を含有する転写層3と、を備え、転写層3には昇華性色素または熱移行性色素の有無によりパターン4が形成されていることを特徴とする。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
光透過性を有する可撓性基板と、該可撓性基板に配置された昇華性色素または熱移行性色素を含有する転写層と、を備え、 該転写層には、前記昇華性色素または前記熱移行性色素の有無によりパターンが形成されていることを特徴とするフォトマスク。
IPC (3件)：
G03F1/08 ,  G02B5/20 ,  H01L21/027
FI (3件)：
G03F1/08 A ,  G02B5/20 101 ,  H01L21/30 502P
Fターム (8件)：
2H048BA11 ,  2H048BA47 ,  2H048BA64 ,  2H048BB42 ,  2H095BA12 ,  2H095BB08 ,  2H095BC05 ,  2H095BC24
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 電子ビーム描画方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-052377   出願人：松下電子工業株式会社
審査官引用 (4件)
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