特許
J-GLOBAL ID：200903038598770789

素子の製造方法及びそれを用いた表示装置の製造方法

発明者：
高橋 俊朗

高橋 俊朗 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-113217
公開番号（公開出願番号）：特開2008-268666
出願日： 2007年04月23日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：
【課題】可撓性基板上に素子のパターニングを行う場合に加工マージンを容易にとることができ、高精度にパターニングを行うことができる素子の製造方法及びそれを用いた表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】可撓性基板上に素子を製造する方法であって、前記可撓性基板よりも寸法変化率の小さい支持基板10上に複数の前記可撓性基板14を分割した状態で保持する工程と、前記支持基板上に保持された各可撓性基板上に素子をパターニングする工程と、を含むことを特徴とする素子の製造方法。例えば、可撓性基板上に画素をパターニングして表示装置を製造する場合、画素のパターニングに上記の方法を好適に適用することができる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
可撓性基板上に素子を製造する方法であって、前記可撓性基板よりも寸法変化率の小さい支持基板上に複数の前記可撓性基板を分割した状態で保持する工程と、前記支持基板上に保持された各可撓性基板上に素子をパターニングする工程と、を含むことを特徴とする素子の製造方法。
IPC (6件)：
G09F 9/00 ,  H05B 33/02 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50 ,  G02F 1/13 ,  G02F 1/133
FI (6件)：
G09F9/00 338 ,  H05B33/02 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500
Fターム (27件)：
2H088FA16 ,  2H088FA17 ,  2H088FA18 ,  2H088FA26 ,  2H088FA29 ,  2H088HA01 ,  2H088HA02 ,  2H088MA20 ,  2H090JB03 ,  2H090JC02 ,  2H090JC11 ,  2H090JD15 ,  2H090LA01 ,  3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107DD16 ,  3K107DD17 ,  3K107GG11 ,  3K107GG52 ,  3K107GG54 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435BB12 ,  5G435EE13 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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