特許
J-GLOBAL ID：200903038690478300

粉塵含有排ガス処理装置及び粉塵含有排ガス処理方法

発明者：
淡路 敏夫

淡路 敏夫 について


出願人/特許権者：
淡路 敏夫

淡路 敏夫 について


代理人 (1件)： 澤 喜代治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-330177
公開番号（公開出願番号）：特開2000-140546
出願日： 1998年11月04日
公開日（公表日）： 2000年05月23日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、粉塵含有排ガス処理装置及び粉塵含有排ガス処理方法に係り、構成が簡単で小型かつコンパクトな1つの装置で高能率に粉塵含有排ガスの全ての処理が行える粉塵含有排ガス処理装置及び粉塵含有排ガス処理方法を提供することを目的とする。【構成】 本発明は、粉塵含有排ガスを化学処理するための処理室と、この処理室内に配置され、前記排ガス中に含有されている粉塵及び前記化学処理により生成した固形物や水分等の液分を捕集する1つ又は複数の捕集体と、この捕集体に集積した粉塵及び固形物や水分等の液分を当該捕集体から落下させる落下手段と、前記処理室の下方に配置され、該処理室に連通させた回収室とを備える。
請求項（抜粋）：
粉塵含有排ガスを化学処理するための処理室と、該処理室内に配置され、前記排ガス中に含有されている粉塵及び/又は前記化学処理により生成した固形物を捕集する1つ又は複数の捕集体と、該捕集体に集積した粉塵及び固形物を当該捕集体から落下させる落下手段と、前記処理室の下方に配置され、該処理室に連通させた回収室とを備えることを特徴とする粉塵含有排ガス処理装置。
IPC (5件)：
B01D 50/00 501 ,  B01D 50/00 ,  B01D 46/28 ,  B01D 47/00 ,  B01D 53/86 ZAB
FI (5件)：
B01D 50/00 501 D ,  B01D 50/00 501 M ,  B01D 46/28 ,  B01D 47/00 Z ,  B01D 53/36 ZAB A
Fターム (30件)：
4D032AB03 ,  4D032AB04 ,  4D032AB07 ,  4D032AD10 ,  4D032BA01 ,  4D032BA03 ,  4D032BA05 ,  4D032BB05 ,  4D032BB11 ,  4D032BB20 ,  4D032DA01 ,  4D048AA21 ,  4D048BB01 ,  4D048BB20 ,  4D048CC14 ,  4D048CC15 ,  4D048CC43 ,  4D058JA04 ,  4D058JA46 ,  4D058JB03 ,  4D058JB06 ,  4D058MA01 ,  4D058MA02 ,  4D058MA11 ,  4D058MA48 ,  4D058MA60 ,  4D058RA02 ,  4D058TA01 ,  4D058TA06 ,  4D058UA01
引用特許：
審査官引用 (10件)
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