特許
J-GLOBAL ID：200903038716744771

パターン形成方法

発明者：
田中 雄介

田中 雄介 について

, 
児玉 治仁

児玉 治仁 について


出願人/特許権者：
東レ株式会社

東レ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-371654
公開番号（公開出願番号）：特開2007-171748
出願日： 2005年12月26日
公開日（公表日）： 2007年07月05日
要約：
【課題】リードタイムの短縮とパターン形成性のばらつきを低減することが可能となるパターン形成方法を提供する。【解決手段】下記(A)、(B)、(D)、および(E)の各工程をこの順に行うパターン形成方法において、(B)工程と(D)工程の間に、(C)加熱乾燥工程で得られた塗膜を25%RH以下の湿度雰囲気で除湿する除湿工程、を有することを特徴とするパターン形成方法。 (A)無機微粒子と感光性有機成分と有機溶媒とを含有する感光性ペーストを基板上へ塗布する塗布工程 (B)該塗布工程で得られた塗膜を加熱乾燥する加熱乾燥工程 (D)該加熱乾燥工程で得られた塗膜を露光する露光工程(E)該露光工程で得られた塗膜を現像する現像工程【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記(A)、(B)、(D)、および(E)の各工程をこの順に行うパターン形成方法において、(B)工程と(D)工程の間に、(C)加熱乾燥工程で得られた塗膜を25%RH以下の湿度雰囲気で除湿する除湿工程、を有することを特徴とするパターン形成方法。 (A)無機微粒子と感光性有機成分と有機溶媒とを含有する感光性ペーストを基板上へ塗布する塗布工程 (B)該塗布工程で得られた塗膜を加熱乾燥する加熱乾燥工程 (D)該加熱乾燥工程で得られた塗膜を露光する露光工程 (E)該露光工程で得られた塗膜を現像する現像工程
IPC (5件)：
G03F 7/38 ,  G03F 7/20 ,  H01J 9/02 ,  H01J 11/02 ,  G03F 7/004
FI (5件)：
G03F7/38 501 ,  G03F7/20 501 ,  H01J9/02 F ,  H01J11/02 B ,  G03F7/004 501
Fターム (47件)：
2H025AA01 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA11 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025CA00 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CC03 ,  2H025CC08 ,  2H025EA04 ,  2H025EA10 ,  2H025FA01 ,  2H025FA17 ,  2H096AA27 ,  2H096AA30 ,  2H096BA05 ,  2H096DA10 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H097HA03 ,  2H097LA11 ,  5C027AA02 ,  5C027AA06 ,  5C027AA09 ,  5C040GC18 ,  5C040GC19 ,  5C040GD07 ,  5C040GD09 ,  5C040GF18 ,  5C040GF19 ,  5C040GG07 ,  5C040GG09 ,  5C040JA02 ,  5C040JA13 ,  5C040JA14 ,  5C040JA15 ,  5C040JA17 ,  5C040JA22 ,  5C040KA09 ,  5C040KA16 ,  5C040MA26
引用特許：
出願人引用 (8件)
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