欠陥検査装置及びそれを用いたデバイス製造方法

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出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：小栗昌平 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-011852
公開番号（公開出願番号）：特開2002-216694
出願日： 2001年01月19日
公開日（公表日）： 2002年08月02日
要約：

【要約】【課題】1次荷電粒子線の照射エネルギーを大きくして試料表面が帯電しても、信頼性の高い欠陥検査ができる欠陥検査装置を提供する。【解決手段】ステップ11で検出2次電子の強度に基づき、ステップ12で測定画像データを作成する。ステップ13で、帯電によって歪んだ画像を補正するための歪み補正データを作成し、ステップ14で、測定画像データ全体を歪み補正データに基づいて補正して補正画像データを作成する。そして、ステップ15で、基準画像データ、同一試料の他の小領域の補正画像、他の試料の同一小領域の補正画像のいずれか1つと画像比較を行い、不一致の場合欠陥として出力する。

請求項（抜粋）：

荷電粒子線を試料に照射したときに照射点から発生する2次荷電粒子を検出して、試料の被検査領域を分割した小領域単位に、試料の欠陥検査を行う欠陥検査装置であって、前記2次荷電粒子に基づく前記小領域の測定画像データを作成する手段と、前記測定画像データと基準画像データとの間の、複数の特定点における誤差に基づいて、前記荷電粒子照射に伴う試料表面の帯電による歪み補正データを求め、この歪み補正データに基づいて、前記測定画像データ全体を補正して補正画像データを作成する画像補正手段と、前記補正画像データと、他の小領域の補正画像データ、他の試料の補正画像データ、前記基準画像データの少なくとも1つの画像データとを画像全体について比較する画像比較手段とを有し、前記画像比較手段の出力に基づいて試料の欠陥を検出する欠陥検査装置。

IPC (6件)：

H01J 37/22 502 , G01B 15/00 , G01N 23/225 , H01J 37/28 , H01J 37/29 , H01L 21/66

FI (6件)：

H01J 37/22 502 H , G01B 15/00 B , G01N 23/225 , H01J 37/28 B , H01J 37/29 , H01L 21/66 J

Fターム (38件)：

2F067AA62 , 2F067BB02 , 2F067BB04 , 2F067CC16 , 2F067CC17 , 2F067HH06 , 2F067HH13 , 2F067JJ05 , 2F067KK04 , 2F067LL16 , 2G001AA03 , 2G001BA07 , 2G001CA03 , 2G001DA01 , 2G001DA09 , 2G001EA04 , 2G001FA01 , 2G001FA08 , 2G001GA04 , 2G001GA05 , 2G001GA06 , 2G001HA13 , 2G001KA03 , 2G001KA20 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 2G001SA01 , 4M106AA01 , 4M106BA02 , 4M106CA38 , 4M106DB05 , 4M106DB21 , 4M106DJ18 , 4M106DJ19 , 4M106DJ20 , 5C033UU02 , 5C033UU04 , 5C033UU05

引用特許：

審査官引用 (6件)

外観検査方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-002793 出願人：株式会社日立製作所
基板検査用高速電子線計測装置及び基板検査方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-372884 出願人：株式会社島津製作所, ギレルモトロリラ
電子ビーム・マイクロスコピーを用いた自動マスク検査装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-126723 出願人：ケーエルエー・インストルメンツ・コーポレーション

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