荷電粒子ビーム走査式自動検査装置

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-264295
公開番号（公開出願番号）：特開2000-100362
出願日： 1998年09月18日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】被検査物の情報の取り込みの周期以下の時間で偏向走査位置の補正を可能とし、検査位置や偏向歪の補正を高速高精度に行うことにより、チップ比較検査の精度向上や歪の大きなウェハ外周近傍の検査を可能とする。【解決手段】被検査物102に照射する荷電粒子ビーム101を偏向制御する偏向制御手段105において、偏向走査信号も補正もすべてデジタルで演算を行ない、デジタル制御信号の時系列により、デジタル値を逐次アナログ値に変換し、偏向走査波形106を形成するデジタル偏向制御方式で行なう。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームの走査位置を制御する偏向制御手段を備え、被検査物の所定のビーム走査位置に荷電粒子ビームを照射し、被検査物の情報を取り込み、該情報を処理して被検査物の検査を行う荷電粒子ビーム走査式検査装置において、前記偏向制御手段は、画像取り込み周期以内の時間で前記荷電粒子ビームの走査位置を制御するディジタル信号を出力し、前記ディジタル信号を画像取り込み周期以内の時間でアナログ電圧に変換し、前記荷電粒子ビームの走査位置を制御することを特徴とする荷電粒子ビーム走査式検査装置。

IPC (6件)：

H01J 37/147 , G01N 23/20 , G01N 23/225 , G06T 7/00 , G06T 3/00 , H01L 21/66

FI (6件)：

H01J 37/147 B , G01N 23/20 , G01N 23/225 , H01L 21/66 J , G06F 15/62 405 C , G06F 15/66 360

Fターム (33件)：

2G001AA03 , 2G001AA05 , 2G001AA07 , 2G001FA06 , 2G001FA11 , 2G001GA06 , 2G001GA09 , 2G001GA11 , 2G001HA01 , 2G001HA07 , 2G001HA13 , 2G001JA02 , 2G001JA03 , 2G001JA13 , 2G001JA20 , 2G001KA03 , 2G001LA11 , 2G001MA05 , 4M106AA01 , 4M106AA02 , 4M106BA03 , 4M106CA39 , 4M106DB01 , 4M106DB20 , 4M106DB30 , 5B057AA03 , 5B057BA01 , 5B057BA21 , 5B057BA28 , 5B057CD12 , 5B057CH05 , 5B057DA03 , 5C033FF03

引用特許：

審査官引用 (9件)

電子ビーム検査方法とそのシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-124951 出願人：日本ケー・エル・エー株式会社
電子線描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-027820 出願人：株式会社日立製作所
マルチプローブ制御回路およびこれを具備する情報処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-213120 出願人：キヤノン株式会社

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