特許

J-GLOBAL ID：200903038855302244

画像表示素子の製造方法およびガスバリアフィルムの洗浄方法

発明者： 饗場 聡
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-134079
公開番号（公開出願番号）：特開2009-081124
出願日： 2008年05月22日
公開日（公表日）： 2009年04月16日
要約：

【課題】有機層と無機層を積層したガスバリアフィルムを用いて画像表示素子を製造する方法を提供する。【解決手段】 少なくとも1つの有機領域と、少なくとも1つの無機領域とを有するガスバリアフィルムを乾燥することを含む、画像表示素子の製造方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

少なくとも1つの有機領域と、少なくとも1つの無機領域とを有するガスバリアフィルムを乾燥することを含む、画像表示素子の製造方法。

IPC (4件)：

H05B 33/02 ,  H05B 33/04 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (4件)：

H05B33/02 ,  H05B33/04 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (15件)：

3K107AA01 ,  3K107CC21 ,  3K107DD13 ,  3K107DD16 ,  3K107DD17 ,  3K107DD19 ,  3K107EE45 ,  3K107EE48 ,  3K107EE49 ,  3K107EE50 ,  3K107FF02 ,  3K107FF17 ,  3K107GG02 ,  3K107GG22 ,  3K107GG28

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 有機エレクトロルミネッセンス素子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-277387   出願人：コニカミノルタホールディングス株式会社
• 有機EL素子の製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-309480   出願人：コニカミノルタホールディングス株式会社
• 有機EL素子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-341638   出願人：コニカミノルタホールディングス株式会社