特許
J-GLOBAL ID：200903084695981869
有機EL素子の製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-309480
公開番号（公開出願番号）：特開2004-146184
出願日： 2002年10月24日
公開日（公表日）： 2004年05月20日
要約：
【課題】減圧下のプラズマ洗浄の為の減圧装置(真空排気装置)を不要としコストダウンを図ると共に、真空槽内壁の不純物質による基板汚染や内壁の不純物質除去の手間を軽減し、連続生産によりタクトタイムを短縮し、生産時の生産性を上げ、更に高品質な有機EL素子の製造装置を提供する。【解決手段】ガラス又は樹脂材料よりなる基材上にITO膜を成膜された基板の洗浄装置と、前記ITO膜上に少なくとも有機化合物膜層を成膜する成膜装置と、を備えた有機EL素子の製造装置において、前記洗浄装置は大気圧近傍で発生させたプラズマで前記基板を洗浄するプラズマ洗浄装置であることを特徴とする有機EL素子の製造装置。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
ガラス又は樹脂材料よりなる基材上にITO膜を成膜された基板の洗浄装置と、前記ITO膜上に少なくとも有機化合物膜層を成膜する成膜装置と、を備えた有機EL素子の製造装置において、
前記洗浄装置は大気圧近傍で発生させたプラズマで前記基板を洗浄するプラズマ洗浄装置であることを特徴とする有機EL素子の製造装置。
IPC (4件)：
H05B33/10
, C23C14/02
, H05B33/14
, H05H1/24
H05B33/10
, C23C14/02 Z
, H05B33/14 A
, H05H1/24
3K007AB18
, 3K007CA01
, 3K007CA05
, 3K007CB01
, 3K007DB03
, 3K007FA01
, 4K029AA09
, 4K029AA11
, 4K029AA24
, 4K029BA62
, 4K029BB02
, 4K029BD00
, 4K029FA04
, 4K029FA05
, 4K029FA07
