特許
J-GLOBAL ID：200903038894991294

基板処理装置

発明者：
須藤 恒匡

須藤 恒匡 について


出願人/特許権者：
住友精密工業株式会社

住友精密工業株式会社 について


代理人 (2件)： 森 道雄 ,  穂上 照忠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-328029
公開番号（公開出願番号）：特開2004-160335
出願日： 2002年11月12日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：
【課題】処理槽内での圧力変動が適正であり、同時にダウンフローを確保することができる。【解決手段】基板を回転して所定の処理、すなわち、処理工程▲1▼(水洗処理+乾燥処理)、処理工程▲2▼(洗浄処理+水洗処理+乾燥処理)および処理工程▲3▼(エッチング処理+水洗処理+乾燥処理)を行う基板処理装置であって、吸気口から供給される風量を調整する調整手段と、排気口を開閉させる開閉手段と、調整手段による風量を検出する検出手段とを設け、処理槽内の圧力変動が所定範囲になるように、前記検出手段によって検出される風量に応じて、前記排気口の開閉手段を制御する基板処理装置である。同様に、前記処理槽内の圧力変動が所定範囲になるように、前記検知手段による排気口の開閉状態に応じて、吸気口の調整手段を制御する基板処理装置である。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
処理すべき基板を水平に支持して回転させる回転機構を設ける処理槽を備え、この処理槽の上部に吸気口を設け、底部に排気口を設けて、前記処理槽内にダウンフローを形成するとともに、前記処理槽内では処理すべき基板を回転して所定の処理を行う基板処理装置であって、前記吸気口から供給される風量を前記基板の処理工程に応じて調整する調整手段と、上記排気口を開閉させる開閉手段と、前記調整手段による風量を検出する検出手段とを設け、前記処理槽内の圧力変動が所定範囲になるように、前記検出手段によって検出される風量に応じて、前記排気口の開閉手段を制御することを特徴とする基板処理装置。
IPC (5件)：
B08B3/02 ,  G03F7/16 ,  H01L21/027 ,  H01L21/304 ,  H01L21/306
FI (6件)：
B08B3/02 B ,  G03F7/16 502 ,  H01L21/304 643A ,  H01L21/304 648L ,  H01L21/30 562 ,  H01L21/306 J
Fターム (20件)：
2H025AB16 ,  2H025EA05 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB23 ,  3B201AB33 ,  3B201AB47 ,  3B201BB21 ,  3B201BB92 ,  3B201CB11 ,  3B201CD11 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43 ,  5F043DD30 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE37 ,  5F046JA04 ,  5F046LA01 ,  5F046MA01
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-225087   出願人：松下電器産業株式会社
  • スピン洗浄乾燥装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-304350   出願人：島田理化工業株式会社
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-100408   出願人：大日本スクリーン製造株式会社

前のページに戻る

TOP

BOTTOM