特許
J-GLOBAL ID:200903039069405010

光導波路の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西川 惠清 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-361781
公開番号(公開出願番号):特開2003-161851
出願日: 2001年11月27日
公開日(公表日): 2003年06月06日
要約:
【要約】【課題】 コアとクラッドの間の空隙の発生の抑制と、クラッド内におけるコア材からなるコアと連続する中間層の形成を抑制して、光導波性能を向上し、しかも簡略化された工程にて光導波路を製造することができる光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】 クラッド材で形成されると共に上面にコア形成用の溝2が設けられた基材1の上面上と溝2内とに液体状のコア材料3を配置する。コア材料3を硬化させて溝2内にコア6を形成する。このコア材料3の硬化途中において基材1の上面上からコア材料3の過剰分を除去する。クラッド材からなるカバー材4を基材1の上面に配置すると共にこのカバー材4にて溝2の上部開口を閉塞する。
請求項(抜粋):
クラッド材で形成されると共に上面にコア形成用の溝が設けられた基材の上面上と溝内とに液体状のコア材料を配置し、コア材料を硬化させて溝内にコアを形成し、このコア材料の硬化途中において基材の上面上からコア材料の過剰分を除去することを特徴とする光導波路の製造方法。
Fターム (7件):
2H047KA03 ,  2H047PA02 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA27 ,  2H047TA43
引用特許:
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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