光学素子成形用型とその製造方法および光学素子とその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松田正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-020929
公開番号（公開出願番号）：特開平11-218631
出願日： 1998年02月02日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】硬い被加工物であっても微細で深いパタ-ンを形成できる光学素子成形用型とその製造方法を提供することによって、性能、量産性、低コスト性を兼ね備えた光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】ダイヤモンド系材料もしくは石英系材料を主成分とする母材をドライエッチングで微細加工することによって、光学素子成形用型を得て、これを用いてプレス加工により、光学素子を製造する。前記ドライエッチングにおいては、ダイヤモンド系材料の場合は、酸素ガスを主成分とするエッチングガスを用い、石英系材料の場合は、Crを材料とするエッチングマスクおよびフッ素系有機ガスを主成分とするエッチングガスを用いる。

請求項（抜粋）：

ダイヤモンドまたはダイヤモンドライクカ-ボンを主成分とする母材上にエッチングマスクを形成するエッチングマスク形成工程と、前記エッチングマスク形成工程の後、酸素ガスを主成分とするエッチングガスを用いたドライエッチングによって前記母材をパタ-ニングする母材パタ-ニング工程とを含むことを特徴とする光学素子成形用型の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (5件)

微細パタン形成法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-251252 出願人：日本電信電話株式会社
光学素子のプレス成形方法および成形型
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-343275 出願人：キヤノン株式会社
特開平4-154635

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