特許

J-GLOBAL ID：200903039084727821

光部品用基材への低抵抗部の形成方法、光部品用基材および光部品

発明者： 山口 省一郎 ,  岩井 真 ,  根萩 隆智
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (2件)： 細田 益稔 ,  青木 純雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-184969
公開番号（公開出願番号）：特開2004-029348
出願日： 2002年06月25日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：

【課題】光部品用基材に、金属材料を直接適用する必要なしに低抵抗部を形成する。【解決手段】リチウムとリチウム以外の金属元素との複合酸化物からなる光部品用基材1に、矢印Aのようにイオン照射することによって、複合酸化物の抵抗値よりも低い抵抗値を有する低抵抗部4を形成する。低抵抗部4は、複合酸化物の酸素が欠損した酸素欠損組成を有しており、これによって周囲の複合酸化物に比べてシート抵抗が低下する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

リチウムとリチウム以外の金属元素との複合酸化物からなる光部品用基材に、前記複合酸化物の抵抗値よりも低い抵抗値を有する低抵抗部を形成する方法であって、 前記光部品用基材にイオン照射することによって前記低抵抗部を生成させることを特徴とする、光部品用基材への低抵抗部の形成方法。

IPC (3件)：

G02F1/03 ,  G02B6/13 ,  G02F1/37

FI (3件)：

G02F1/03 501 ,  G02F1/37 ,  G02B6/12 M

Fターム (13件)：

2H047NA01 ,  2H047NA08 ,  2H047QA03 ,  2H047QA07 ,  2H047RA08 ,  2H079DA13 ,  2H079JA04 ,  2K002AB12 ,  2K002CA03 ,  2K002FA23 ,  2K002FA27 ,  2K002GA04 ,  2K002HA20

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 強誘電体のドメイン反転構造形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-029208   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 特開平4-167554
  
• 光波長変換素子とその製造方法、この素子を用いた光発生装置および光ピックアップ、回折素子、ならびに分極反転部の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-005188   出願人：松下電器産業株式会社
• 光波長変換素子およびその作成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-029207   出願人：富士写真フイルム株式会社