特許
J-GLOBAL ID:200903039095851630
レジストインク
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-285461
公開番号(公開出願番号):特開2005-057018
出願日: 2003年08月01日
公開日(公表日): 2005年03月03日
要約:
【課題】レジスト直描方式を用いたレジストパターンの形成に用いられるレジストインクおいて、レジストパターンがアルカリ水溶液にて容易に短時間で剥離できるレジストインクを提供し、それを用いたレジストパターン、導体パターン、プリント配線板の製造方法を提供する。【解決手段】(1)レジスト直描方式によるレジストパターンの形成に用いられるレジストインクにおいて、形成されたレジストパターンを3%アルカリ水溶液中に40秒間浸漬したときの膨潤率が50%以上であるレジストインクを用いる。(2)感光性であることを特徴とする(1)記載のレジストインクを用いる。(3)(1)または(2)記載のレジストインクを用いたレジスト直描方式によるレジストパターンを形成する。(4)(3)記載の方法により、導体パターンを形成する。(5)(4)記載の方法を用い、プリント配線板を製造する。【選択図】選択図なし
請求項(抜粋):
レジスト直描方式によるレジストパターンの形成に用いられるレジストインクにおいて、形成されたレジストパターンを3%アルカリ水溶液中に40秒間浸漬したときの膨潤率が50%以上である事を特徴とするレジストインク。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (19件):
5E339BD11
, 5E339BE13
, 5E339CC01
, 5E339CC02
, 5E339CD01
, 5E339CE13
, 5E339CF16
, 5E339CG04
, 5E339DD02
, 5E339DD04
, 5E339GG10
, 5E343CC63
, 5E343DD63
, 5E343EE17
, 5E343ER14
, 5E343ER18
, 5E343ER43
, 5E343ER47
, 5E343GG11
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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