特許
J-GLOBAL ID：200903039214065850

3次元形状の形成方法、および液晶表示装置の製造方法

発明者：
西川 和宏

西川 和宏 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (3件)： 原 謙三 ,  木島 隆一 ,  金子 一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-339110
公開番号（公開出願番号）：特開2006-146063
出願日： 2004年11月24日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：
【課題】 集光効率の高い反射電極用凹凸形状の形成において、インクジェット法を用いながらも微細な凹凸形状を付与させうる3次元形状の形成方法を実現する。【解決手段】 インクジェット法を用いて、ガラス基板11上に、硬化処理における収縮率がそれぞれ異なる第1の吐出流体33および第2の吐出流体34を順次吐出し、複数の吐出流体材料が不完全な混合状態にて基板11上に液滴を形成する。その後、硬化処理を行うと大きなうねりの凸形状に加えて、小さなうねりを有する微細な凹凸が形成される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に、少なくとも硬化可能な有機材料を含有した吐出流体をインクジェット法によって吐出し、該有機材料を硬化することによって、硬化した吐出流体の表面に凹凸形状を形成する3次元形状の形成方法において、 上記基板上に、硬化処理における収縮率が異なる複数の吐出流体材料を順次吐出し、その後、上記各吐出流体の硬化処理を行うことを特徴とする3次元形状の形成方法。
IPC (3件)：
G02B 5/02 ,  G02B 5/08 ,  G02F 1/133
FI (3件)：
G02B5/02 C ,  G02B5/08 A ,  G02F1/1335 520
Fターム (17件)：
2H042BA02 ,  2H042BA04 ,  2H042BA14 ,  2H042BA20 ,  2H042DA02 ,  2H042DA12 ,  2H042DA14 ,  2H042DA18 ,  2H091FA16Y ,  2H091FB03 ,  2H091FB04 ,  2H091FB08 ,  2H091FC01 ,  2H091FD03 ,  2H091FD23 ,  2H091GA07 ,  2H091LA16
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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