特許
J-GLOBAL ID:200903039316077489
粘着防止微細構造物の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小野 由己男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-002678
公開番号(公開出願番号):特開2002-355800
出願日: 2002年01月09日
公開日(公表日): 2002年12月10日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 粘着防止微細構造物の製造方法を提供する。【解決手段】 基板から浮上する微細構造物を製造するために犠牲層103を利用するマイクロマシニング工程において、上記犠牲層の積層前後に乾式エッチングにより除去可能な粘着防止膜101を積層する段階を含む微細構造物の製造方法が提供される。これにより、湿式エッチングで犠牲層を除去する時に発生する粘着現象を防止できる。さらに、乾式エッチングにより粘着防止膜を除去し、犠牲層除去時には安価の湿式エッチング工程をそのまま利用できるので低廉に微細構造物を製造できる効果がある。
請求項(抜粋):
基板から浮上する微細構造物を製造するために犠牲層を利用する微細構造物の製造方法であって、上記犠牲層の積層前後に乾式エッチングにより除去可能な粘着防止膜を積層する段階を含むことを特徴とする微細構造物の製造方法。
IPC (2件):
B81C 1/00
, G03F 7/004 511
FI (2件):
B81C 1/00
, G03F 7/004 511
Fターム (8件):
2H025AB20
, 2H025AC01
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025DA40
, 2H025FA39
, 2H025FA40
, 2H025FA41
引用特許: