特許
J-GLOBAL ID：200903039672699664

流体供給装置、洗浄装置および洗浄方法

発明者：
乾 仁史

乾 仁史 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (3件)： 西教 圭一郎 ,  杉山 毅至 ,  廣瀬 峰太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-166312
公開番号（公開出願番号）：特開2005-347575
出願日： 2004年06月03日
公開日（公表日）： 2005年12月15日
要約：
【課題】 装置が小型であっても、液体などの流体の供給を止めることなく、流体の清浄度を高く保つことができる流体供給装置、その流体を用いた洗浄装置および洗浄方法を提供することを目的とする。【解決手段】 洗浄装置1は、貯留装置である純水製造装置17から洗浄手段であるシャワ13まで流路16を用いて流れてきた純水を用いて、シャワ13によって、板状部品11を洗浄する装置である。流路16には、液体中の微粒子を除去するフィルタである第1段フィルタ18および第2段フィルタ19が設置され、1つのフィルタを迂回して流体を流す迂回流路であるバイパスライン20および21が設置されている装置である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
流体を貯留する貯留装置と、 貯留装置から供給先まで流体を流す流路と、 流体中の微粒子を除去するフィルタと、 1つのフィルタを迂回して流体を流す迂回流路とを含み、 流路に複数のフィルタが直列に設置されることを特徴とする流体供給装置。
IPC (4件)：
H01L21/304 ,  B01D36/00 ,  B01J4/00 ,  B08B3/04
FI (5件)：
H01L21/304 648F ,  H01L21/304 648K ,  B01D36/00 ,  B01J4/00 103 ,  B08B3/04 Z
Fターム (17件)：
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201BB24 ,  3B201BB92 ,  3B201CB01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD22 ,  4D066AA02 ,  4D066AA05 ,  4G068AA01 ,  4G068AB11 ,  4G068AC05 ,  4G068AD21 ,  4G068AF02 ,  4G068AF14
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-038491   出願人：ソニー株式会社
審査官引用 (5件)
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