特許
J-GLOBAL ID：200903009747325769

基板処理装置及び基板洗浄ユニット

発明者：
芳谷 光明

芳谷 光明 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-238268
公開番号（公開出願番号）：特開2004-074021
出願日： 2002年08月19日
公開日（公表日）： 2004年03月11日
要約：
【課題】基板から剥離させた汚染物が基板に再付着するのを効果的に防止できるとともに、基板端部に付着した汚染物を的確に除去でき、洗浄効果の向上が図れる基板処理装置及び基板洗浄ユニットを提供する。【解決手段】この基板処理装置1では、基板Wが傾斜搬送されつつ洗浄処理が行われ、搬送方向A上流側から順に、低圧で純水を吐出する吐出部33,35,37,41,43、高圧で純水を吐出する吐出部47,49,55、純水とエアとのミスト状の混合流体を吐出する吐出部53が備えられる。各洗浄部7,9,11,13間には、パイプノズル等である水流形成部19,21,23が備えられ、洗浄部7の前段及び洗浄部13の後段には、液カーテン等である水流形成部17,25が備えられる。水流形成部25の後段には、装置1外の供給ライン63から未使用の純水が供給される吐出部59,61が備えられる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
所定の搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して高圧の洗浄液を吐出して洗浄を行う第1の吐出部と、 前記搬送経路上における前記第1の吐出部の搬送方向下流側に設けられ、前記搬送経路に従って搬送されてきた基板に対して、洗浄液と気体とを混合してミスト状の混合流体として吐出して洗浄を行う第2の吐出部と、 を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (6件)：
B08B3/02 ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1333 ,  H01L21/304
FI (6件)：
B08B3/02 C ,  B08B1/04 ,  B08B7/04 A ,  G02F1/13 101 ,  G02F1/1333 500 ,  H01L21/304 643B
Fターム (26件)：
2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H090JC19 ,  3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB16 ,  3B116AB34 ,  3B116BA02 ,  3B116BA13 ,  3B116BB24 ,  3B116BB88 ,  3B116BB90 ,  3B116CD22 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB16 ,  3B201AB34 ,  3B201BA02 ,  3B201BA13 ,  3B201BB24 ,  3B201BB88 ,  3B201BB90 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CD22
引用特許：
審査官引用 (8件)
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