特許

J-GLOBAL ID：200903039803277884

アンカーリングフィーチャを利用したパターンピッチ分割分解を行うための方法

発明者： スウ,ダン-フー スティーブン ,  コーコラン,ノエル ,  チェン,ジャン フン ,  ヴァン デン ブローケ,ダグラス
出願人/特許権者： エーエスエムエル マスクツールズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-237175
公開番号（公開出願番号）：特開2008-122928
出願日： 2007年09月12日
公開日（公表日）： 2008年05月29日
要約：

【課題】ウェーハ上に印刷されるフィーチャを含むターゲットパターンを複数パターンに分解するための方法を提供する。【解決手段】複数パターンを結像するために使用されるプロセスに伴う最小クリティカルディメンションおよびピッチを決定するステップ12、第1領域を規定するために所定の量だけアンカーリングフィーチャを成長させ、第1領域内のいずれかのフィーチャをパターンAに割り当てるステップ14、第2領域を規定するために所定の量だけアンカーリングフィーチャを成長させ、第2領域内のいずれかのフィーチャをパターンBに割り当てるステップ18を含む。ターゲットパターン内の密な間隔のフィーチャがパターンAまたはパターンBのいずれかに割り当てられるまで繰り返される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ウェーハ上に印刷されるフィーチャを含むターゲットパターンを複数パターンに分解するための方法であって、 (a)前記複数パターンを結像するために利用されるプロセスに伴う最小クリティカルディメンションおよびピッチを決定するステップ、 (b)アンカーリングフィーチャを生成するステップ、 (c)前記アンカーリングフィーチャを前記ターゲットパターンの第1フィーチャに隣接して配置するステップ、 (d)第1領域を規定するために所定の量だけ前記アンカーリングフィーチャを成長させるステップ、 (e)前記第1領域内のいずれかのフィーチャを第1パターンに割り当てるステップ、 (f)前記アンカーリングフィーチャを前記ターゲットパターンの第2フィーチャに隣接して配置するステップ、 (g)第2領域を規定するために前記所定の量だけ前記アンカーリングフィーチャを成長させるステップ、および (h)前記第2領域内のいずれかのフィーチャを第2パターンに割り当てるステップ、 を含む、ターゲットパターンを分解するための方法。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (4件)：

G03F1/08 A ,  H01L21/30 502C ,  H01L21/30 514A ,  G03F7/20 521

Fターム (5件)：

2H095BA02 ,  2H095BB01 ,  2H095BB02 ,  5F046AA13 ,  5F046AA25

引用特許：

出願人引用 (4件)

• マスク及びそれを用いたホールパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-089440   出願人：松下電器産業株式会社
• 波長に依存しないリソグラフィ用の露光パターン生成方法及び露光パターン生成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-343615   出願人：富士通株式会社
• 特開昭62-198861
  
• デバイス製造処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-041228   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (4件)

• マスク及びそれを用いたホールパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-089440   出願人：松下電器産業株式会社
• 波長に依存しないリソグラフィ用の露光パターン生成方法及び露光パターン生成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-343615   出願人：富士通株式会社
• 特開昭62-198861
  
• デバイス製造処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-041228   出願人：株式会社ニコン