特許
J-GLOBAL ID:200903039809245844
リトロー型干渉計
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人オカダ・フシミ・ヒラノ
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-346376
公開番号(公開出願番号):特開2007-171206
出願日: 2006年12月22日
公開日(公表日): 2007年07月05日
要約:
【課題】従来技術のもとでこれまでに行うことができた分解能よりも高い分解能で変位を測定し、制御するための改善された方法及び装置を提供する。【解決手段】干渉計コアに誘導される光ビームを含み、干渉計コアは光ビームを第1の成分のビーム及び第2の成分のビームに分割し、第1の成分のビームはリトロー角で回折格子に誘導され、干渉計コアにより受光され、第2の成分のビームと合成され、合成された第1の成分のビーム及び第2の成分のビームは、合成された第1の成分のビーム及び第2の成分のビームを測定し回折格子の変位を判定する検出器に誘導される、変位を測定するための装置や方法である。【選択図】図1
請求項(抜粋):
変位を測定するための装置であって、
干渉計コアに誘導される光ビームを含み、該干渉計コアは該光ビームを第1の成分のビーム及び第2の成分のビームに分割するようになっており、該第1の成分のビームは概ねリトロー角で回折格子に誘導され、前記干渉計コアによって受光され、前記第2の成分のビームと合成され、合成された前記第1の成分のビーム及び前記第2の成分のビームは、合成された該第1の成分のビーム及び該第2の成分のビームを測定して前記回折格子の変位を判定するようになっている検出器に誘導される、変位を測定するための装置。
IPC (3件):
G01B 9/02
, G01B 11/00
, G01D 5/38
FI (3件):
G01B9/02
, G01B11/00 G
, G01D5/38 A
Fターム (36件):
2F064AA01
, 2F064EE10
, 2F064FF06
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG23
, 2F064GG38
, 2F064GG39
, 2F064GG49
, 2F064GG69
, 2F064JJ01
, 2F064JJ05
, 2F065AA02
, 2F065AA09
, 2F065AA39
, 2F065FF16
, 2F065FF17
, 2F065FF48
, 2F065FF52
, 2F065GG23
, 2F065HH08
, 2F065LL12
, 2F065LL35
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065LL42
, 2F065LL46
, 2F065LL55
, 2F065QQ17
, 2F103BA37
, 2F103CA04
, 2F103DA01
, 2F103EA01
, 2F103EC11
, 2F103EC12
, 2F103EC14
引用特許:
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