処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金坂憲幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-265461
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092905
出願日： 1996年09月13日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】基台を含む旋回部分の旋回半径を小さくでき、省スペース化が図れる処理装置を提供する。【解決手段】昇降および回転可能に設けられた基台8と、この基台8上に往復移動可能に設けられ、被処理基板2を支持する水平に延出した基板支持部25を有する基板移動体26と、この基板移動体26と対向して上記基台8上に往復移動可能に設けられ、複数枚の被処理基板2が収納された容器3を支持する水平に延出した容器支持部27を有する容器移動体28とを備えた搬送機構9を有する処理装置において、上記基板移動体26および容器移動体28が基台8上の待機位置にある状態で、上記容器支持部27を上記基板移動体26の直上に配置してなる。

請求項（抜粋）：

昇降および回転可能に設けられた基台と、この基台上に往復移動可能に設けられ、被処理基板を支持する水平に延出した基板支持部を有する基板移動体と、この基板移動体と対向して上記基台上に往復移動可能に設けられ、複数枚の被処理基板が収納された容器を支持する水平に延出した容器支持部を有する容器移動体とを備えた搬送機構を有する処理装置において、上記基板移動体および容器移動体が基台上の待機位置にある状態で、上記容器支持部を上記基板移動体の直上に配置したことを特徴とする処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 , H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/68 A , H01L 21/205

引用特許：

審査官引用 (5件)

処理システムのキャリア搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-210977 出願人：東京エレクトロン東北株式会社
基板搬送装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-221145 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平4-180246

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