特許
J-GLOBAL ID：200903040159340764

露光装置及びデバイス製造方法

発明者：
大内 千種

大内 千種 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 大塚 康徳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-344356
公開番号（公開出願番号）：特開2002-151388
出願日： 2000年11月10日
公開日（公表日）： 2002年05月24日
要約：
【要約】【課題】投影露光装置の大型化を回避しつつ測定用の干渉計を備える。【解決手段】連続発振レーザ1から出力されるレーザ光を露光及び測定の双方に利用する。連続発振レーザ1から出力されるレーザ光を半透過鏡51及びミラー11により無収差光学系Lに指向する。干渉計は、無収差光学系L、投影光学系3、及び、ウェハステージ4上の反射部材MRを有し、投影光学系3の波面収差を反映した干渉縞を光電変換器13上に形成する。
請求項（抜粋）：
連続発振レーザから出力されるレーザ光でレチクル上のパターンを照明する照明光学系と、該照明されたパターンを露光対象物体に投影する投影光学系とを有する露光装置であって、前記連続発振レーザから出力されるレーザ光を利用する干渉計を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  G01M 11/02 ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/22
FI (5件)：
G01M 11/02 B ,  G03F 7/20 502 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 515 D
Fターム (16件)：
2G086HH06 ,  2H097AA03 ,  2H097AB09 ,  2H097BA10 ,  2H097CA13 ,  2H097EA01 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CA04 ,  5F046CB03 ,  5F046CB07 ,  5F046DA13 ,  5F046DB14 ,  5F046DC12
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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