干渉計を搭載した投影露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高梨幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-079287
公開番号（公開出願番号）：特開2000-277412
出願日： 1999年03月24日
公開日（公表日）： 2000年10月06日
要約：

【要約】【課題】レチクル面上のパターンをウエハー面上に投影する投影光学系の波面収差、像面湾曲等の光学性能を測定することができる干渉計を搭載した投影露光装置を得ること。【解決手段】露光光源と、該露光光源からの露光光で第1物体を照明する照明系と、該照明系からの露光光で照明された第1物体上のパターンを第2物体上に投影露光する投影光学系と、該露光光源からの露光光を利用して該投影光学系の光学特性を測定する干渉計とを有していることを特徴とする投影露光装置。

請求項（抜粋）：

露光光源と、該露光光源からの露光光で第1物体を照明する照明系と、該照明系からの露光光で照明された第1物体上のパターンを第2物体上に投影露光する投影光学系と、該露光光源からの露光光を利用して該投影光学系の光学特性を測定する干渉計とを有していることを特徴とする投影露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 516 C , G03F 7/20 521

Fターム (9件)：

5F046BA04 , 5F046BA05 , 5F046CA04 , 5F046CB01 , 5F046CB22 , 5F046DA13 , 5F046DB01 , 5F046DB11 , 5F046DC02

引用特許：

審査官引用 (10件)

紫外線結像光学システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-321033 出願人：旭光学工業株式会社, ソニー株式会社
X線投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-213789 出願人：株式会社ニコン
投影光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-146367 出願人：株式会社ニコン

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