光学的顕微鏡を有する荷電粒子ビームシステム

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小橋一男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-344985
公開番号（公開出願番号）：特開平10-199467
出願日： 1997年12月15日
公開日（公表日）： 1998年07月31日
要約：

【要約】【課題】集積回路ダイを処理する荷電粒子技術と光学的技術とを結合させることを可能とするシステム及び方法を提供する。【解決手段】フォーカストイオンビームシステム等の荷電粒子ビームシステムが、真空チャンバ、該チャンバ内の第一領域内に視野を有するように位置された光学的顕微鏡、該第一領域内へレーザビームを投光するように該光学的顕微鏡と整合されているレーザ、該チャンバ内に位置されており且つ該チャンバの第二領域内へ荷電粒子ビームをフォーカスさせるように配列されている荷電粒子ビームカラム、該チャンバ内に位置されており且つ該第一領域内の第一位置と該第二領域内の第二位置との間を移動可能な試料支持手段、を有している。レーザ、光学的顕微鏡及び荷電粒子ビームからの画像内において見ることの可能な整合マークでDUTにマーク付けを行なうために使用される。該整合マークの位置は光学的画像内において正確に決定することが可能であり且つそうでなければ荷電粒子ビーム画像内において見ることが不可能な特徴部の位置を推論することが可能である。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームシステムにおいて、(a)真空チャンバ、(b)前記チャンバの第一領域内に視野を有する光学顕微鏡、(c)前記第一領域内へレーザービームを投光するように前記光学的顕微鏡と整合しているレーザ、(d)前記チャンバ内に位置されており且つ前記チャンバの第二領域内へビームをフォーカスさせるように配設されている荷電粒子ビームカラム、(e)前記チャンバ内に位置されており且つ前記第一領域内の第一位置と前記第二領域内の第二位置との間で移動可能な試料支持手段、を有することを特徴とするシステム。

IPC (3件)：

H01J 37/305 , H01J 37/22 502 , H01J 37/304

FI (3件)：

H01J 37/305 A , H01J 37/22 502 L , H01J 37/304

引用特許：

審査官引用 (4件)

集束イオンビーム加工装置および加工方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-167579 出願人：日本電気株式会社
集束イオンビーム装置における加工位置特定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-127615 出願人：日本電子株式会社
特開昭61-024136

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