イットリア-アルミナ複合酸化物膜の製造方法、イットリア-アルミナ複合酸化物膜、溶射膜、耐蝕性部材および低パーティクル部材

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：細田益稔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-180769
公開番号（公開出願番号）：特開2003-095649
出願日： 2002年06月21日
公開日（公表日）： 2003年04月03日
要約：

【要約】【課題】膜の基体に対する剥離強度が高いイットリア-アルミナ複合酸化物膜を提供する。【解決手段】イットリア粉末とアルミナ粉末との混合粉末を基体上に溶射することによってイットリア-アルミナ複合酸化物からなる溶射膜を成膜する。好ましくは、イットリア粉末の50%平均粒子径が0.1μm以上、100μm以下であり、アルミナ粉末の50%平均粒子径が0.1μm以上、100μm以下である。好ましくは、イットリア-アルミナ複合酸化物は少なくともガーネット相を含み、更にはペロブスカイト相を含む。

請求項（抜粋）：

イットリア粉末とアルミナ粉末との混合粉末を基体上に溶射することによってイットリア-アルミナ複合酸化物からなる溶射膜を成膜することを特徴とする、イットリア-アルミナ複合酸化物膜の製造方法。

IPC (4件)：

C01F 17/00 , C23C 4/10 , C23C 4/18 , H01L 21/205

FI (4件)：

C01F 17/00 B , C23C 4/10 , C23C 4/18 , H01L 21/205

Fターム (23件)：

4G076AA02 , 4G076AA18 , 4G076AB02 , 4G076AB16 , 4G076BA38 , 4G076CA10 , 4G076CA29 , 4G076CA31 , 4G076CA33 , 4G076DA30 , 4K031AA01 , 4K031AB02 , 4K031AB09 , 4K031CB14 , 4K031CB16 , 4K031CB42 , 4K031CB43 , 4K031CB49 , 4K031DA04 , 4K031FA01 , 5F045BB15 , 5F045EB03 , 5F045EB06

引用特許：

審査官引用 (12件)

セラミック皮膜形成方法及びその方法を用いて作製したセラミック部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-145797 出願人：富士岐工産株式会社
半導体・液晶製造装置用部材
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-371726 出願人：京セラ株式会社
真空成膜装置用部品とそれを用いた真空成膜装置、およびターゲット、バッキングプレート
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-086487 出願人：株式会社東芝

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引用文献：

審査官引用 (1件)

Plasma-Sprayed Alumina-Yttria Ceramic Coatings for Cavitation-Erosion Protection

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