特許
J-GLOBAL ID:200903040352041502

ポリッシング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 勇 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-070715
公開番号(公開出願番号):特開平11-333710
出願日: 1999年03月16日
公開日(公表日): 1999年12月07日
要約:
【要約】【課題】 ポリッシング装置に生じる振動現象を防止し、安定にポリッシング対象物の表面を平坦且つ鏡面状に研磨することができるポリッシング装置を提供する。【解決手段】 ポリッシング対象物4と研磨パッド又は砥石6とを相対的に押圧しつつ摺動させることでポリッシング対象物4を研磨し、平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、ポリッシング対象物4を保持する保持部材1と、該保持部材1を回転させる機構と、該回転する保持部材1の外周部を支持する軸受13とを備え、研磨中に生じる保持部材1又は研磨部材5の振動を抑制するようにした。
請求項(抜粋):
上面に研磨パッド又は砥石を貼ったターンテーブルとトップリングとを有し、前記ターンテーブルとトップリングとの間にポリッシング対象物を介在させて所定の力で押圧することによって該ポリッシング対象物を研磨し、平坦且つ鏡面化するポリッシング装置において、前記ポリッシング装置は、前記トップリングの外周部を支持する軸受と、該軸受を前記ポリッシング装置の架台に固定する支持機構とを備えたことを特徴とするポリッシング装置。
引用特許:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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