特許
J-GLOBAL ID：200903040469896320

無機被膜形成用組成物および無機被膜形成方法

発明者：
高梨 博

高梨 博 について

, 
佐藤 善美

佐藤 善美 について

, 
小畑 健和

小畑 健和 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-194111
公開番号（公開出願番号）：特開2001-019873
出願日： 1999年07月08日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：
【要約】【課題】 導電性被膜、絶縁性被膜、光吸収性被膜、または蛍光体被膜などの各種無機被膜を低温焼成プロセスで形成することが可能な無機被膜形成用組成物および無機被膜形成方法を提供すること。【解決手段】 (A)感光剤、(B)粉末、および(C)硝酸塩を含んでなる無機被膜形成用組成物。
請求項（抜粋）：
(A)感光剤、(B)粉末、および(C)硝酸塩を含んでなることを特徴とする無機被膜形成用組成物。
IPC (6件)：
C09D 1/00 ,  C09D 5/00 ,  G03F 7/40 501 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 9/227 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
C09D 1/00 ,  C09D 5/00 C ,  G03F 7/40 501 ,  G03F 7/40 521 ,  H01J 9/227 C ,  H01J 9/227 D ,  H01L 21/30 571
Fターム (52件)：
2H096AA00 ,  2H096AA27 ,  2H096BA02 ,  2H096BA03 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04 ,  4J038AA011 ,  4J038BA041 ,  4J038CE021 ,  4J038CG031 ,  4J038CK031 ,  4J038CP031 ,  4J038DH001 ,  4J038GA08 ,  4J038HA021 ,  4J038HA026 ,  4J038HA061 ,  4J038HA066 ,  4J038HA211 ,  4J038HA216 ,  4J038HA311 ,  4J038HA316 ,  4J038HA331 ,  4J038HA336 ,  4J038HA351 ,  4J038HA356 ,  4J038HA471 ,  4J038HA476 ,  4J038HA561 ,  4J038HA566 ,  4J038JA34 ,  4J038JA43 ,  4J038JB16 ,  4J038JB18 ,  4J038JB29 ,  4J038KA08 ,  4J038KA20 ,  4J038NA18 ,  4J038NA19 ,  4J038NA20 ,  4J038NA21 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  4J038PC01 ,  4J038PC03 ,  5C028HH14 ,  5C028JJ09 ,  5F046LA18
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (15件)
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