パターニング可能な無機酸化物被膜形成用コーティング剤及びパターン形成方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-295176
公開番号（公開出願番号）：特開平7-304998
出願日： 1994年11月29日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：

【要約】【構成】 (A)成分として金属硝酸塩と、(B)成分として多価アルコール(エチレングリコール等)、多価アルコールの縮合物(ジエチレングリコール等)及びそれらの誘導体並びにN-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジメチルアセトアミド及びそれらの誘導体の中から選ばれた少なくとも1種の化合物が、有機溶媒または/及び水に溶解してなることを特徴とする光(紫外線等)によりパターニング可能な無機酸化物被膜形成用コーティング剤に関し、又、前記コーティング剤を基材に塗布、乾燥した後、光を照射し、光未照射部分を水により溶解除去する事を特徴とする無機酸化物被膜のパターン形成方法に関する。【効果】本発明のコーティング剤は、紫外線等の光により、容易に所望部分にのみ、無機被膜を形成しうる。又、光未照射部の溶解除去が、水で行える為、耐薬品性の無い基材にも適用でき、且つ廃液、環境汚染等の問題が無い。

請求項（抜粋）：

(A)成分として金属硝酸塩と、(B)成分として多価アルコール、多価アルコールの縮合物、多価アルコールのエーテルまたはエステル誘導体、多価アルコールの縮合物のエーテルまたはエステル誘導体及びそれらの誘導体並びにN-メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ジメチルアセトアミド及びそれらの誘導体の中から選ばれた少なくとも1種の化合物が、有機溶媒又は/及び水に溶解してなることを特徴とする光によりパターニング可能な無機酸化物被膜形成用コーティング剤。

IPC (3件)：

C09D 1/00 PCJ , G03F 7/004 501 , G03F 7/038

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開昭57-067048
特開平4-220468
液晶表示素子絶縁被膜形成用塗布液
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-004961 出願人：日産化学工業株式会社

全件表示

前のページに戻る