特許
J-GLOBAL ID：200903040561331852
光学干渉型ディスプレイセルの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
葛和 清司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-102018
公開番号（公開出願番号）：特開2004-354977
出願日： 2004年03月31日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：
【課題】光学干渉型ディスプレイセルの製造のための、構造物リリースエッチング法を提供すること。【解決手段】第一電極および犠牲層を透明基板の上に順番に形成し、少なくとも2個の開口部を第一電極および犠牲層に形成して光学干渉型ディスプレイセルの位置を定める。第二電極を犠牲層および支持体上に形成する。最後に、リモートプラズマエッチング法により犠牲層を除去する。【選択図】図3A
請求項（抜粋）：
光学干渉型ディスプレイセルを基板上に製造する方法であって、該方法が:
第一電極を前記基板上に形成すること;
犠牲層を第一電極上に形成すること;
少なくとも2個の開口部を前記犠牲層および第一電極中に形成して、光学干渉型ディスプレイセルの位置を定めること;
耐熱絶縁無機支持体を前記各開口部中に形成すること;
第二電極を前記犠牲層および各開口部の耐熱絶縁無機支持体の上に形成すること;そして
前記犠牲層をリモートプラズマエッチング法により除去すること;
を含む、前記方法。
IPC (3件)：
G02B26/00
, B81C1/00
, H01L21/3065
G02B26/00
, B81C1/00
, H01L21/302 101E
2H041AA05
, 2H041AA21
, 2H041AA23
, 2H041AB16
, 2H041AC06
, 2H041AZ08
, 5F004DA01
, 5F004DA11
, 5F004DA17
, 5F004DA18
, 5F004DB01
, 5F004DB02
, 5F004DB08
, 5F004EA06
, 5F004EA09
, 5F004EB08
