特許

J-GLOBAL ID：200903040747314648

微量物質検出素子

発明者： 西井 準治 ,  金高 健二 ,  三澤 弘明 ,  上野 貢生
出願人/特許権者： 独立行政法人産業技術総合研究所 ,  国立大学法人 北海道大学
代理人 (3件)： 三枝 英二 ,  中野 睦子 ,  林 雅仁
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-066260
公開番号（公開出願番号）：特開2009-222507
出願日： 2008年03月14日
公開日（公表日）： 2009年10月01日
要約：

【課題】局在プラズモン共鳴を用いて微量物質を高感度で検出するために用いる素子について、その性能を更に向上させて微量物質を高感度で測定することを可能とする。【解決手段】基板と、該基板の一面に形成された複数の微小突起部又は微細孔と、該突起部の上面及び基板面上に形成された金属層、又は該微細孔の周辺部及び底面に形成された金属層と、を有するプラズモン共鳴を利用する微量物質検出用素子であって、該突起部の上面に形成された金属層と基板面に形成された金属層とが非接触状態であるか、或いは、該微細孔の周辺部に形成された金属層と微細孔の底面に形成された金属層とが非接触状態であることを特徴とする微量物質検出用素子。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

基板と、該基板の一面に形成された複数の微小突起部と、該突起部の上面及び基板面上に形成された金属層とを有するプラズモン共鳴を利用する微量物質検出用素子であって、 該突起部の上面に形成された金属層と、基板面に形成された金属層とが非接触状態であることを特徴とする微量物質検出用素子。

IPC (1件)：

G01N 21/65

FI (1件)：

G01N21/65

Fターム (14件)：

2G043AA01 ,  2G043BA14 ,  2G043CA03 ,  2G043EA03 ,  2G043GA07 ,  2G043GB02 ,  2G043GB05 ,  2G043GB16 ,  2G043HA01 ,  2G043HA09 ,  2G043JA02 ,  2G043KA02 ,  2G043KA05 ,  2G043KA09

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特許1903195号
  
• 特許2502222号
  
• 微細構造体およびその作製方法並びにセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-022226   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 標的物質検出用の素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-341729   出願人：キヤノン株式会社

審査官引用 (2件)

• 微細構造体およびその作製方法並びにセンサ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-022226   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 標的物質検出素子、標的物質検出装置及び標的物質検出方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-290124   出願人：キヤノン株式会社

引用文献：

審査官引用 (4件)

• Nanopin Plasmonic Resonator Arrayand Its Optical Properties
• Fabrication of metal nanoring array by nanoimprint lithography(NIL) and reactive ion etching
• Fabrication of metal nanoring array by nanoimprint lithography(NIL) and reactive ion etching
• Fabrication of metal nanoring array by nanoimprint lithography(NIL) and reactive ion etching