プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金田暢之 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-365145
公開番号（公開出願番号）：特開2003-268557
出願日： 2002年12月17日
公開日（公表日）： 2003年09月25日
要約：

【要約】【課題】プラズマ処理特性の向上、プラズマ処理特性の再現性の向上を図るとともにプラズマ処理コストの低減する。【解決手段】高周波電源403,415と、第1および第2整合器(マッチングボックス)404,416とを有する一組の電力供給系から高周波電極102を介して反応容器101内に導入された高周波電力により、反応容器101内に導入した原料ガスを分解し、反応容器101内に設置された円筒状基体105に処理を施す。そして、第1および第2の整合器404,416によるプラズマ処理中のインピーダンス調整を、予め設定されたインピーダンス可変範囲内で自動制御により行う。

請求項（抜粋）：

高周波電源と、インピーダンスを可変可能な整合器とを有する複数の電力供給系から電極を介して反応容器内に導入された高周波電力により、前記反応容器内に導入した原料ガスを分解し、前記反応容器内に設置された被処理基体にプラズマ処理を施すプラズマ処理方法において、前記複数の電力供給系が有する前記各整合器のうち、少なくとも1つの整合器によるプラズマ処理中のインピーダンス調整を、予め設定されたインピーダンス可変範囲内で自動制御により行うことを特徴とするプラズマ処理方法。

IPC (4件)：

C23C 16/509 , B01J 19/08 , H01L 21/205 , H05H 1/46

FI (5件)：

C23C 16/509 , B01J 19/08 H , H01L 21/205 , H05H 1/46 L , H05H 1/46 R

Fターム (31件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075AA62 , 4G075BC01 , 4G075BC06 , 4G075CA02 , 4G075CA25 , 4G075DA02 , 4G075DA18 , 4G075EB01 , 4G075EC21 , 4G075ED01 , 4G075EE02 , 4K030AA06 , 4K030BA30 , 4K030CA02 , 4K030CA14 , 4K030FA01 , 4K030HA14 , 4K030JA18 , 4K030JA20 , 4K030KA30 , 4K030KA41 , 4K030LA17 , 5F045AA08 , 5F045AB04 , 5F045BB08 , 5F045CA16 , 5F045DP25 , 5F045EH19 , 5F045GB04

引用特許：

審査官引用 (6件)

フォーク型電極を有するプラズマ化学蒸着装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-087256 出願人：三菱重工業株式会社
高周波プラズマ処理装置のためのインピーダンス整合及び電力制御システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-264844 出願人：株式会社アドテック
プラズマCVDによる堆積膜形成装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-160399 出願人：キヤノン株式会社

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