半導体露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-111167
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283418
出願日： 1996年04月09日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：

【要約】【課題】半導体露光装置において温調クリーンエアの流れを妨げることなく、異物をウエハチャックから効率良く除去する。【解決手段】半導体露光装置のウエハチャックに付着した異物を除去するクリーニング手段はクリーニングプレートと、このクリーニングプレートを駆動する機構部とを備え、この機構部はXYステージ空調空間外部又はXYステージ空調用のクリーンエアーの風下もしくは側方に配置され、その機構部の配置位置から前記のウエハチャックのウエハ接触面へ前記のクリーニングプレートを接近させ、そして機構部の配置位置へ前記のクリーニングプレートを退去させるように構成されている。

請求項（抜粋）：

XYステージ上にウエハを吸着するウエハチャックと、このウエハチャックのウエハ接触面に付着した異物を除去するクリーニング手段とを有し、このクリーニング手段はクリーニングプレートと、このクリーニングプレートを駆動する機構部とを備え、この機構部はXYステージ空調空間外部又はXYステージ空調用のクリーンエアーの風下もしくは側方に配置され、その機構部の配置位置から前記のウエハチャックのウエハ接触面へ前記のクリーニングプレートを接近させ、そして機構部の配置位置へ前記のクリーニングプレートを退去させることを特徴とする半導体露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , H01L 21/68

FI (3件)：

H01L 21/30 503 G , G03F 7/20 521 , H01L 21/68 Z

引用特許：

出願人引用 (4件)

清掃装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-152221 出願人：株式会社ニコン
ウエハチヤツク
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-210444 出願人：キヤノン株式会社
露光装置用のクリーニング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-216570 出願人：株式会社ニコン

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審査官引用 (3件)

清掃装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-152221 出願人：株式会社ニコン
ウエハチヤツク
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-210444 出願人：キヤノン株式会社
露光装置用のクリーニング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-216570 出願人：株式会社ニコン

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