特許
J-GLOBAL ID：200903069852643361

清掃装置

発明者：
宮井 恒夫

宮井 恒夫 について

, 
今井 裕二

今井 裕二 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-152221
公開番号（公開出願番号）：特開平8-321458
出願日： 1995年05月26日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：
【要約】【目的】 スループットを低下させることなく、基板保持部材の清掃を長期間に渡って確実に行なう。【構成】 Xステージ38が所定位置へ移動され、搬送系によって砥石が搬送されホルダ40上に受け渡されると、垂直駆動手段78では係合部材94をホルダ40上の砥石に向けて下方に駆動する。係合部材94が砥石に係合した状態で回転駆動手段では係合部材94と一体的に砥石をホルダ40上で回転駆動する。これにより、ホルダ40が砥石により強力に清掃される。この際、Xステージ38を所定範囲内で2次元方向に移動させる。清掃終了後、係合部材94が砥石から離脱されると、垂直駆動手段78では係合部材を上方に駆動し、搬送系によってホルダ40上の砥石がホルダ40外へ搬送される。
請求項（抜粋）：
マスクに形成されたパターンが転写される感光基板を吸着保持する基板保持部材と、当該基板保持部材を保持して基準平面内を2次元方向に移動する基板ステージとを備えた露光装置に設けられ、前記基板保持部材の清掃を行なうための清掃装置であって、清掃用の砥石を搬送すると共に前記基板保持部材に対して前記砥石の受け渡しを行なう搬送系と;前記基板保持部材上の前記砥石に着脱自在に係合する係合部材と;前記係合部材が前記砥石に係合した状態で前記係合部材と一体的に前記砥石を前記基板保持部材上で回転駆動する回転駆動手段と;前記係合部材と前記回転駆動手段とを前記基板ステージの移動面に直交する第1方向に沿って駆動する垂直駆動手段とを有する清掃装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341
FI (2件)：
H01L 21/30 503 G ,  H01L 21/304 341 B
引用特許：
審査官引用 (6件)
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